阿斯ml TWINSCAN NXE:3400 EUV光刻机

EUV光刻系统

使用EUV光, bet365手机版的NXE系统提供高分辨率光刻技术,并使大规模生产世界上最先进的微芯片成为可能

使用的波长只有13.5纳米(几乎是x射线范围), 阿斯麦公司的极紫外(EUV)光刻技术可以在很小的规模上做大事. EUV驱动摩尔定律向前发展,支持新颖的晶体管设计和芯片架构.

大规模生产尖端微芯片

带有嵌入式微处理器芯片的主板和电路板的特写.

如果你有一部相对较新的智能手机, 最新的游戏机或智能手表之一, 你很可能直接受益于EUV光刻技术.

 

尖端微芯片包含数十亿个晶体管. 每个新一代(通常称为“节点”), 芯片制造商封装了更多更小的晶体管以使芯片更强大, 更快更节能.

 

使用13的波长.5纳米,bet365手机版的EUV系统在微芯片上的图案最好的线. 它们被用于大批量生产,为最先进的微芯片(7纳米)制造高度复杂的基层, 5纳米和3纳米节点).

驾驶负担比例

使用EUV使芯片制造商更能负担得起规模化,并允许半导体行业继续追求摩尔定律. EUV系统用于在芯片上打印最复杂的层, 其余的层使用各种DUV系统打印. 在未来的许多年里,这两种技术将同时被需要,bet365手机版将继续推进这两种技术.

EUV光刻系统组合

通往EUV的道路

EUV技术的发展花费了20多年的时间

 

制造EUV一点也不简单. 阿斯麦在EUV R投资超过60亿欧元&D超过17年. bet365手机版收购了Cymer——一家专门从事光源技术的公司——以加速EUV光源的开发. 一旦技术发展起来, bet365手机版必须克服许多技术挑战,以满足芯片制造商的大批量生产要求.

三名洁净室工程师正在组装EUV系统,将光源移动到体内.

EUV光刻技术是如何发展起来的


研究人员和科学家在20世纪80年代首次开始探索EUV光刻技术, 随着这一新技术的第一次成功应用,该十年即将结束.

 

这项技术的产业化工作于1994年启动, 由半导体行业公司(包括阿斯麦)组成的联盟交付了第一个原型机. 该样机证明了极紫外光刻是可能的, 这个行业开始追求这项技术.

 

但EUV是一个具有挑战性和昂贵的追求, 在时间, 只有ASML与bet365手机版的合作伙伴和供应商继续朝着可行的系统努力. 2006年8月,bet365手机版向纳米科学学院运送了世界上第一个EUV光刻演示工具 & 美国奥尔巴尼的工程公司,以及比利时鲁汶的imec公司. 学院和公司使用这些原型来了解EUV以及它如何适合半导体制造过程.

 

尽管2008年全球金融危机,bet365手机版仍继续投资于EUV. 2008年春天,纳米科学学院 & 工程部使用他们的演示工具生产了世界上第一个全场EUV测试芯片 . 2009年,, bet365手机版在荷兰Veldhoven总部开放了用于EUV开发和生产的洁净室和工作空间.

 

然后, in 2010, 第一个TWINSCAN NXE:3100, 预生产EUV系统, 运到bet365手机版的主要客户那里了吗. 两年后,又有六套系统被运送给不同的客户. 第一套EUV生产系统——TWINSCAN NXE:3300——于2013年发货, 标志着这项新技术的发展又向前迈进了一步.

 

尽管存在延误和困难,但EUV光刻技术在2016年迎来了转机. 客户开始大量订购NXE:3400. 在2020年初,bet365手机版庆祝了EUV系统的第100次装船.

第一个EUV Alpha演示工具,发货于2006年.

EUV NXE之后是什么? 达到High-NA

促进芯片制造的进一步创新, bet365手机版正在开发下一代EUV平台,将数值孔径(NA)从0增加.33 to 0.55(“High-NA”).

 

High-NA平台, “EXE”, 具有新颖的光学设计和明显更快的晶圆和线级. 它将使几何芯片扩展到未来十年. EXE平台被设计为支持多个未来节点, 从2纳米的逻辑节点开始,然后是相似密度的内存节点.

 

下一代平台的开发正在加速, 随着第一批高na系统的发货,R&D项目的预计在2023年底实现. EXE大容量制造系统预计将在2025年之前在客户工厂全面运行.