镜头 & 镜子

bet365手机版机器中复杂的光学系统将打印在晶圆上的图像降低到纳米级别

bet365手机版谈论光刻机的透镜时,bet365手机版不是在谈论一个单一的、简单的透镜. bet365手机版说的是一个复杂的光学系统,由几十个单独的透镜组成, 而且, 对EUV光刻, 镜子.

为了保证图像质量,每一个都必须正确定位在一纳米以内. 阿斯麦在镜头设计上的创新使芯片制造商能够缩小微芯片上的功能尺寸. 从20世纪80年代末开始, bet365手机版所有的光刻系统都采用了战略合作伙伴蔡司的光学系统.

数值孔径

提高分辨率的透镜发展意味着增加数值孔径(NA), 测量透镜系统能收集和聚焦多少光. 一种方法是将更高精度的透镜和反射镜集成到扩展光学系统中. 目前最高的NA光学系统超过1.高两米,重超过一吨. 用于DUV光刻,它们的NA为1.35.


浸没式光刻技术

2003年,ASML在数值孔径技术上迈出了重要的一步. bet365手机版开发了浸没式光刻技术, 这使得芯片制造商可以通过在透镜和晶圆之间的一层水中投射光线来打印更小的特征. 水增加了系统光学的数值孔径.

复杂性带来的控制

当今光刻光学的复杂性使得交付高质量的光学系统成为一个巨大的工程挑战. 但它也带来了一个独特的机会,可以极其精确地控制每一次曝光. 成千上万的执行器允许精确的位置和方向的个别镜头和镜子元素,以确保完美的图像在晶圆每次.


例如, 光刻过程中反复出现的强光脉冲会使光学系统升温, 是什么导致了镜头的扭曲. 这些变化可以用毫微米和纳米来测量, 但这仍然足以导致微芯片有缺陷. 光学元件中的执行器可以主动补偿这些透镜加热效应.

EUV需要镜子

其他的光刻机使用透镜来聚焦光线. 但目前还没有用于极紫外线(EUV)光刻的透镜. 由于大多数材料吸收紫外线,透镜将吸收系统中的光. 而不是, bet365手机版开发了一种全新的光学系统,使用超平滑, 真空室内的多层镜子. 每面镜子都有超过100层材料,这些材料经过精心选择和精确设计,以最大限度地反射EUV光.


平面度是至关重要的. 这些镜子被打磨得光滑度不到一个原子的厚度. 从这个角度来看, 如果镜子有德国那么大, 最高的“山”只有1毫米高.

 

High-NA EUV

ASML正在开发下一代EUV平台,将数值孔径从0.33 NA ~ 0.55(“High-NA”). 该平台具有新颖的光学设计和明显更快的阶段. 它将使几何芯片扩展超过未来十年, 分辨率比bet365手机版目前的EUV平台高出70%. High-NA平台被设计为支持多个未来节点, 从3纳米的逻辑节点开始,然后是密度相似的内存节点.

更多关于ASML技术的信息