进一步推动k1

ASML将光与物质相互作用的基本物理概念推向了绝对极限

使用波长更短的光刻技术和更强大的光学系统可以使尺寸更小, 更密集更强大的微芯片.

瑞利方程的最后一部分是一个称为' k的系数1-factor’, 这是bet365手机版在光刻过程中可以做的所有事情的集合来提高bet365手机版系统的分辨率. 关键是让系统越来越接近k1的物理限制.

控制光

控制光线照射到标线上的方式对k有很大影响1 和分辨率. 在光刻系统内部, 光源收集光源的光并将其聚焦到十字线上, 并且可以实现各种技术,让芯片制造商更好地控制他们的光刻过程,并在不影响系统速度的情况下提高性能. 例如, 离轴照明将光线以一个角度照射到十字线上,以更好地控制光线从图案上衍射的方式. Similarly, 将光束塑造成不同的“瞳孔形状”,从简单的点到复杂的点,可以控制光在系统内的相互作用,以提高图像的对比度.


锻炼小学生的身体

随着芯片功能变得越来越小, 瞳孔的形状变得更加复杂,为了获得最佳的光线分辨率而量身定制. 在过去, 将衍射光学元件(DOE)手动插入到照明器中以获得最佳效果,从而产生所需的瞳孔形状. 但在bet365手机版这个行业,时间就是金钱. 在今天的ASML DUV系统中, FlexRay自由形式照明器的特点是一个4,000个独立可控的镜像, together, 能瞬间创造出你能想象的任何瞳孔形状吗. 在bet365手机版的EUV系统中,flex小学生自由形式照明器发挥了类似的作用.


模拟最佳蓝图

利用bet365手机版系统产生的大量数据, 计算光刻 用强大的算法模拟制造过程. 这些模拟有助于设计芯片蓝图(十字线),其中包含要打印在晶圆上的图案. 这就是bet365手机版如何确保bet365手机版的光刻机打印出他们应该打印的东西. 这种技术被称为光学接近校正(OPC),通常与光刻系统中的特定照明优化相结合.

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